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作成日：2007年7月27日_記事番号：T00001751
研究開発設備、免税と税額控除の重複適用不可
財政部は26日、研究開発設備の導入に際し、期間５年間の免税措置と研究開発（Ｒ＆Ｄ）支出の税額控除措置の重複適用を認めないとの判断を示した。今後は免税措置と税額控除措置の二者択一を求めていく。27日付工商時報が伝えた。
産業高度化促進条例では、戦略産業で研究開発設備を新規導入した場合、同設備で生産した製品に５年間の免税枠を設けている。また、同条例では研究開発投資の30％相当額の税額控除が認められている。このため、一部企業に優遇措置が重複適用される形となり、財政部が経済部に見直しを求めていた。
現在は重複適用が発覚すると、国税局に適用除外を求めていた。しかし、明文規定はなく、一部業者は重複適用を受けたままの状態になっているとみられる。
