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TSMCと富士通ME、28ナノプロセスで提携


ニュース 電子 作成日:2009年8月28日_記事番号:T00017571

TSMCと富士通ME、28ナノプロセスで提携

 
 台湾積体電路製造(TSMC)と富士通マイクロエレクトロニクス(富士通ME、本社・東京都新宿区、岡田晴基社長)は27日、28ナノメートル製造プロセスのロジックICについて、共同開発およびTSMCが受託製造を担当することを発表した。28ナノ製品のサンプルは来年末にも出荷する予定だ。28日付蘋果日報が伝えた。

 両社は今年4月末、40ナノプロセスのロジックICについて富士通MEからTSMCへの製造委託を決定し、28ナノ以降についても初期段階での合意に達していた。市場関係者によると、富士通MEは上半期赤字が600億円に達したことから、費用低減のため次世代の研究開発(R&D)をTSMCと共同で行う決定を下したとみられる。

 TSMCは昨年9月に28ナノプロセスをフルノード技術とし、CPUチップやグラフィックチップなどへの採用を目指して開発を進めていた。富士通MEがこの技術における最初の顧客となる。