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作成日：2009年10月30日_記事番号：T00018921
ＴＳＭＣの40ナノ歩留まり率、大幅低下も「年内に解消」
台湾積体電路製造（ＴＳＭＣ）の張忠謀董事長は29日、同社の40ナノメートル製造プロセスの歩留まり率が40％まで大幅に低下したとの市場観測について、「確かに設備に問題が出ているが、第４四半期中に解決できる」と強調した。30日付電子時報が報じた。
半導体業界関係者によると、ＴＳＭＣの40ナノ歩留まり率は、一度は60％まで上昇したものの再び低下し、米グラフィックＩＣ大手のエヌビディアなどで出荷計画の遅れにつながっている。
ただ、ＴＳＭＣは40ナノプロセスの問題解決および生産能力拡充に全力で取り組んでおり、張董事長は「売上高全体に占める40ナノプロセスの割合は現在の４％から年内に10％まで拡大する」と自信を見せた。また、40、65ナノなど先進プロセスによる生産能力拡充などを目的に、今年の設備投資を従来の23億米ドルから27米億ドルに上方修正した。
