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エルピーダ、プロモスに40ナノ技術提供へ【表】


ニュース 電子 作成日:2009年12月9日_記事番号:T00019750

エルピーダ、プロモスに40ナノ技術提供へ【表】

 
 先ごろ台湾DRAM大手、茂徳科技(プロモス・テクノロジーズ)と生産提携を結んだエルピーダメモリの坂本幸雄社長は8日、台北市内で陳民良プロモス董事長と初めて共同記者会見を開き、両社の提携について説明した。プロモスは来年上半期、エルピーダから設備コストの低減が可能な65ナノメートルXS(eXtra Shrink)プロセス技術を取得し、DDR3の受託生産を中部科学工業園区(中科)の12インチウエハー工場で開始する。当初の月産ウエハー投入枚数は3万5,000枚。その後65ナノ4F2プロセス、さらに40ナノプロセスもエルピーダから導入予定だ。9日付電子時報などが報じた。
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坂本幸雄社長(左)と陳民良プロモス董事長(右)。中科12インチ工場をすべてエルピーダ用に充てた場合、受注額はプロモス売上高の5割まで拡大することになる(8日=中央社)
 
 坂本社長は、65ナノXSプロセスへの移行過程で、エルピーダと提携先の力晶半導体(PSC)が合弁で運営する瑞晶電子(レックスチップ・エレクトロニクス)が生産設備の面で支援することも可能と話し、今後エルピーダ、レックスチップ、力晶、プロモス間の協力関係を強めていきたいとの考えを示した。

 坂本社長はまた、2010年のレックスチップの設備投資は4億米ドルを予定していると明らかにした。
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