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作成日：2010年2月8日_記事番号：T00020907
ＤＲＡＭ各社、プロセス微細化競争が激化
ＤＲＡＭ大手、エルピーダメモリと米マイクロン・テクノロジーの、台湾提携パートナー各社が製造プロセスの微細化競争を激化させている。８日付経済日報が報じた。
エルピーダ傘下、瑞晶電子（レックスチップエレクトロニクス）の幹部はこのほど、同社が移行を進めている65ナノメートルＸＳ（eXtra Shrink）プロセスで、歩留まり率が80％を超えたことを明らかにした。同プロセスの生産量は、同業の45ナノプロセスの規模に相当するため、今後の競争力向上に大きく貢献するとしている。また同社は、約120億台湾元（約305億円）を投じ、今年中に全生産ラインを40ナノプロセスに移行させる計画だ。
これに対し、マイクロン陣営の南亜科技と華亜科技（イノテラ・メモリーズ）も、それぞれ約35億台湾元（約97億円）分の生産設備を購入し、春節（旧正月）中に休日返上で50ナノ以降のプロセス用液浸装置の搬入を急ぐ考えだ。
イノテラは今年第４四半期に全生産ラインで50ナノプロセスへの移行を完了させる計画で、42ナノプロセスも今年中旬にテスト生産、第４四半期に少量生産を開始する予定だ。
