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半導体業界、液浸露光機の供給不足深刻


ニュース 電子 作成日:2010年7月21日_記事番号:T00024146

半導体業界、液浸露光機の供給不足深刻

 
 世界の半導体業界で50ナノメートル製造プロセスが主流となり、リソグラフィー(露光)過程で使用されるイマージョン・スキャナー(液浸露光機)の供給不足が深刻化している。21日付電子時報が伝えた。

 特にオランダASML社が生産している最新機種「NXT:1950i」は、発注から納入まで1年間かかっているのが現状だ。このため、業界ではエルピーダメモリのように旧機種の「XT:1950i」で急場をしのぐメーカーも出始めている。ただ、旧機種では40ナノメートル製造プロセスへの投入が限界で、30ナノメートル以下の最先端プロセスに対応し切れないとの指摘もある。

 イマージョン・スキャナーは、1台当たり10億~20億台湾元(約27億~54億円)と高価で、金融危機に伴うDRAM景気後退局面では、台湾の中堅以下のメーカーには同スキャナーを購入する余力がなかった。このため、現在ASML社から同スキャナーの納入を受けているのは、台湾積体電路製造(TSMC)、サムスン電子、東芝など最大手に限られており、中堅以下のメーカーは苦しい対応を迫られている。