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作成日：2010年7月30日_記事番号：T00024353
ルネサスの28ナノ以降プロセス、ＴＳＭＣに量産委託
４月１日にＮＥＣエレクトロニクスとルネサステクノロジの経営統合により発足したＩＤＭ（垂直統合型の半導体メーカー）日本最大手、ルネサスエレクトロニクスは、これまで進めてきた事業活動の見直し「100日プロジェクト」の成果として、経営目標を実現するための施策「成長戦略および構造対策」を発表した。その中で同社は、4,000人規模の人員削減実施を表明するとともに、28ナノメートル以降の先進プロセスについて、研究開発（Ｒ＆Ｄ）は一本化して継続するものの、量産は台湾積体電路製造（ＴＳＭＣ）およびグローバル・ファウンドリーズ（ＧＦ）の外部ファウンドリー２社に全面的に委託する方針を示した。30日付工商時報などが報じた。
ルネサスは28ナノプロセス製品のＴＳＭＣでの量産を2012年から開始する予定だ。ＧＦに対しては、今後も継続するＩＢＭとの次世代プロセス共同研究の中で開発されたＳｏＣ（システム・オン・チップ）などの製品を委託する。自社工場の製造プロセスは40ナノまでとし、それ以降の設備投資は行わない考えだ。
