ＤＲＡＭ大手、力晶科技（パワーチップ・テクノロジー）は19日、今年の設備投資額を当初計画の127億台湾元から174億8,800万元（約467億円）へ37％上方修正することを決定した。６割に当たる100億元以上を45ナノメートル製造プロセス用設備の調達に充てる。液浸スキャナーの導入台数を当初計画の２台から４～５台に増やし、今年第４四半期に当初計画通りこのうち１台の導入を予定する。20日付工商時報が伝えた。
パワーチップは、提携先のエルピーダメモリ、および瑞晶電子（レックスチップ・エレクトロニクス）の45ナノ移行が予測以上に順調で、同社も早期移行の必要に迫られたため設備投資額の引き上げに踏み切ったと説明している。また、ハイエンドの液浸スキャナーは発注から製品受領まで９カ月から１年もかかっており、早めに発注を行う必要があることも背景にある。
