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作成日：2010年12月7日_記事番号：T00027027
20ナノＤＲＡＭ参入、台湾ではレックスチップのみ決定
ＤＲＡＭ業界で20ナノメートル製造プロセスへの移行競争がスタートする中、半導体製造装置メーカーのオランダＡＳＭＬ社は、供給不足が予想される同プロセス向けの超紫外線（ＥＵＶ）露光技術を使ったリソグラフィー装置について、ＤＲＡＭ大手各社に予約金を支払うよう要求したとされる。７日付電子時報によると、これに対し、サムスン電子およびハイニックスの韓国メーカー２社が支払いを決めたが、台湾メーカーではエルピーダメモリ傘下の瑞晶電子（レックスチップ・エレクトロニクス）が１億米ドルを投じて１台の予約を決めた以外は、南亜科技、華亜科技（イノテラ・メモリーズ）とも現時点で購入を検討していないようだ。
レックスチップがＥＵＶリソグラフィー装置の購入を決めた背景には、エルピーダが研究開発（Ｒ＆Ｄ）の中心を今後同社に移す考えがあるのではないかと電子時報は指摘している。エルピーダの新技術の導入は現在、広島工場が優先され、次いで、レックスチップ、力晶科技（パワーチップ・テクノロジー）、茂徳科技（プロモス・テクノロジーズ）の順序となっているが、将来的には台湾での導入を優先させる可能性があると報じている。
