グラフィックＩＣ大手、米エヌビディアの黄仁勲・最高経営責任者（ＣＥＯ）は16日、今年第１四半期（２～４月）の粗利益率が市場予測を下回る49.2％にとどまるとの見通しを示し、その原因として、生産委託先の台湾積体電路製造（ＴＳＭＣ）で28ナノメートル製造プロセスの歩留まりが低迷していることを挙げた。17日付工商時報が伝えた。
黄ＣＥＯは「エヌビディアはＴＳＭＣと協力して歩留まりの向上に努めており、改善により生産量が増えればコストは低下する」とし、28ナノ製造プロセスの歩留まりが40ナノ製造プロセス並みの水準を確保できれば、エヌビディアの粗利益率は52％前後の正常レベルを回復できると説明した。
今年はスマートフォン用ＩＣと新世代のグラフィックＩＣの生産で、28ナノ製造プロセスによる生産能力は不足が続きそうだ。生産能力向上には歩留まり改善が重要な条件となってくる。
ＴＳＭＣは今年、60億米ドルの設備投資を見込んでおり、第１四半期は28ナノ製造プロセスによる生産能力拡充に集中している。
