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TSMCが20ナノ強化、設備投資200億元追加へ【表】


ニュース 電子 作成日:2014年5月14日_記事番号:T00050327

TSMCが20ナノ強化、設備投資200億元追加へ【表】

 ファウンドリー世界最大手、台湾積体電路製造(TSMC)は13日董事会で、設備投資に203億2,448万台湾元(約690億円)を追加することを決議した。アップルなどの需要に応えるため、20、16ナノメートルなど先進プロセス生産能力の強化に充てるとみられる。14日付工商時報などが報じた。

 同社発表によると、内訳は先進製造プロセス生産能力に171億378万元、研究開発(R&D)や経常支出に32億2,070万元。

 設備業者によると、同社の今年の設備投資は95億~100億米ドルに達する見通しだ。上半期に董事会で承認した予算は300億元にも届かないため、同社は下半期から設備投資を拡大し、20ナノプロセスのシステム・オン・チップ(SoC)生産能力増強や16ナノプロセスの立体構造トランジスタ(FinFET)の生産ライン設置を行うもようだ。

 同社の20ナノプロセスは、新竹科学工業園区(竹科)の12インチウエハー工場「Fab12」第6期、南部科学工業園区(南科)の「Fab14」第5期で量産中だ。7月には「Fab14」第6期でも量産が始まり、年内に月産能力8万枚に達する見通しだ。16ナノプロセスは来年「Fab14」第8期で量産を開始する予定だ。

 同社は来年の設備投資も今年と同水準を維持し、2017年に10ナノプロセスで量産する計画だ。