グラフィックＩＣ大手、米エヌビディアがこのほど発売した、次世代アーキテクチャー「Maxwell」搭載のＧＰＵ（グラフィックスプロセッサー）「GeForce GTX 980/970」について同社は昨年、台湾積体電路製造（ＴＳＭＣ）の20ナノメートル製造プロセスを採用して生産すると表明していたが、従来製品と同様28ナノプロセスが採用された。これについて業界では、20ナノプロセスは大幅なコスト低減効果が見込めないこと、およびＴＳＭＣの生産能力不足が要因との見方が出ている。24日付工商時報が報じた。
業界関係者によると、ＴＳＭＣの20ナノプロセスではダブルパターニングと呼ばれるリソグラフィー技術が採用されているためコストが高く、さらにエヌビディアの新ＧＰＵで大幅な小型化が進まなかったことから目に見えるコスト効果が期待できないため、良品率の安定した28ナノプロセスの採用が決まったという。
またＴＳＭＣの20ナノプロセス生産能力は今年末時点で月産６万枚に達するものの、その多くはアップルの「Ａ８」プロセッサーおよびクアルコムのスマートフォン用チップの生産に振り向けられている。
