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作成日：2008年1月29日_記事番号：T00005302
力晶、ＩＭＥＣとの提携で32ナノプロセス開発
力晶半導体（ＰＳＣ）は28日、ベルギーのインターユニバーシティ・マイクロエレクトロニクス・センター（ＩＭＥＣ）と提携し、32ナノメートル製造プロセス実現に向けたリソグラフィー技術の開発を行うと発表した。将来的には極端紫外（ＥＵＶ）リソグラフィー技術でも提携する計画だ。29日付工商時報が伝えた。
力晶はまた、ベルギーにエンジニアを派遣し、関連する研究プロジェクトにも参加する。黄崇仁董事長は、「32ナノリソグラフィー技術開発は莫大（ばくだい）な費用がかかるため、インテルや台湾積体電路製造（ＴＳＭＣ）など国際的半導体メーカーはＩＭＥＣとの提携体制を整えている」と説明した上で、力晶もＩＭＥＣと提携を結ぶことで世界的な産学提携研究開発ネットワークに参加して、先進プロセスで遅れをとることのないようにしたいという考えを語った。
