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信越化学、フォトレジスト工場設置か


ニュース 電子 作成日:2015年2月25日_記事番号:T00055550

信越化学、フォトレジスト工場設置か

 経済日報の報道によると、信越化学工業が台湾で半導体材料のフォトレジスト工場建設を検討しているもようだ。投資額は3年で50億台湾元(約190億円)以上と推測されている。ファウンドリー最大手、台湾積体電路製造(TSMC)が、中部科学工業園区(中科)での生産拡大に伴い、サプライヤーとされる同社に工場建設を呼び掛けたもようだ。ワイズニュースの取材に対し信越化学は25日までに「ノーコメント」と回答した。

 同紙によると、信越化学はTSMCの10ナノメートル製造プロセス向けフォトレジストの受注獲得を狙っているとされる。中科台中園区拡張計画(中科5期)が行政院環境保護署(環保署)の環境影響評価委員会大会(環評大会)をなかなか通過せず、TSMCの10ナノプロセス工場建設が遅れたため、信越化学の計画も進んでいなかったもようだ。

 信越化学は当初、TSMCが20、16ナノメートル製造プロセスを手掛ける南部科学工業園区(南科)で約7ヘクタールの用地を探していたとされるが、用地コストが高い上、10ナノプロセスの受注が目的のため、他の場所を検討しているとみられる。

 観測が事実であれば、TSMCのみならず、聯華電子(UMC)なども調達コスト低減が図れる見通しだ。