オランダの半導体製造装置大手、ＡＳＭＬは24日、ファウンドリー最大手、台湾積体電路製造（ＴＳＭＣ）が採用したＡＳＭＬの極端紫外線（ＥＵＶ）露光装置「ＮＸＥ3300Ｂ」が１日当たりウエハー1,000枚以上を露光したと発表した。25日付工商時報が報じた。
ＴＳＭＣは先日米国の学会で、試験で「ＮＸＥ3300Ｂ」を使い連続1,022枚を露光できたと明かした。これに先立ち、同社はＥＵＶ露光での量産を望んでおり、10ナノメートル製造プロセスの一部でまず採用する考えを示している。同社は「ＮＸＥ3300Ｂ」２台を擁し、年内に「ＮＸＥ3350Ｂ」２台を搬入する予定だ。
ＡＳＭＬがこれまでに出荷した「ＮＸＥ3300Ｂ」は８台で、いずれも１日500枚を露光でき、10ナノプロセスの試験生産が可能なレベルだ。ＡＳＭＬは量産ニーズに応えるため、処理枚数は年内に１日1,000枚、来年末までに1,500枚を目標にしている。
