信越化学工業（本社・東京都千代田区、森俊三社長）はこのほど、台湾に半導体材料のフォトレジスト関連事業の工場を新設すると発表した。現在、台湾当局に建設許可を申請しており、許可が取れ次第、建設工事に着手する。工期は１年程度、投資額は約130億円を見込む。
MoneyDJ新聞によると、同社は彰化浜海工業区で既に土地を取得しており、早ければ2016年夏に量産し、生産能力を３割引き上げる計画だ。同社の世界市場シェアは約３割とされ、東京応化工業（ｔｏｋ）やＪＳＲと首位を争っている。
信越化学によると、フォトレジスト関連製品の需要は、半導体デバイスの生産量の増加や微細化の進展により、台湾などアジアと米国で伸びている。従来の直江津工場（新潟県）と併せ２つの生産拠点を持つことでリスクの分散を実現する。
