半導体大手、インテルが14日、今年通年の設備投資計画について３度目の下方修正を行い、投資額を当初の100億米ドルから73億米ドルまで引き下げたことを受け、同社の10ナノメートル製造プロセス開発の進度に遅れが生じるとの見方が出ている。一方、台湾積体電路製造（ＴＳＭＣ）は最大110億米ドルの設備投資計画を維持しており、先進プロセス開発でインテルとの差をさらに広げる可能性が浮上している。15日付経済日報が報じた。
10ナノプロセス開発レースは現在、量産を2017年下半期に延期したインテルに対し、同年第１四半期に量産を予定するＴＳＭＣが約半年リードしている。インテルが今回、設備投資額を引き下げたことで、ＴＳＭＣの設備投資計画との差は最大35%以上に拡大。ＴＳＭＣは先進プロセス開発に、より豊富な資金を投じることになる。
なおインテルについては、現在ＴＳＭＣとサムスン電子が生産を手掛けるアップルのプロセッサーの受注を目指しているとの観測が浮上していた。証券会社は、インテルの設備投資引き下げにより、次世代「Ａ10」プロセッサー受注競争におけるＴＳＭＣに対する脅威が弱まったと指摘した。
