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半導体前工程の16年設備投資、3.7%増=SEMI


ニュース 電子 作成日:2016年3月15日_記事番号:T00062990

半導体前工程の16年設備投資、3.7%増=SEMI

 国際半導体製造装置材料協会(SEMI)がこのほど発表した最新レポートによると、半導体前工程工場における2016年の設備投資は前年比3.7%増の372億米ドルと予測され、17年はさらに13.3%増加するとの見通しが示された。なお昨年は359億米ドルで0.4%減だった。15日付工商時報が報じた。

 同レポートによると、半導体メーカーの設備投資は今年上半期に徐々に高まり、下半期からさらに勢いが増し、来年は2桁成長を回復すると見込まれる。

 なお半導体設備投資全体の最大比率を占めるファウンドリーの投資額は昨年98億米ドルと前年比8%のマイナス成長となったが、今年は5%増、来年は10%近い増加が予測されている。

 一方、DRAM関連の投資は昨年、20ナノメートル製造プロセスによる量産、および10ナノプロセス技術の研究開発(R&D)が進められたことから力強い成長を見せたものの、今年は一転して23%減となる見通しだ。ただ来年は10%成長を回復すると予想される。