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作成日：2008年3月25日_記事番号：T00006349
ＴＳＭＣ、40ナノメートル生産を開始へ
半導体受託生産最大手の台湾積体電路製造（ＴＳＭＣ）は24日、液浸リソグラフィー技術を採用して、40ナノメートル製造プロセスによる生産を開始することを決めたと発表した。高効率が特徴の汎用型プロセス（40Ｇ）と低電力消費型（40ＬＰ）の２種類の技術を採用し、４～６月期から出荷を開始する。既に同プロセスを使用し、数十社の製品の設計に着手している。25日付工商時報が伝えた。
液浸リソグラフィー技術とは、半導体ウエハーに回路パターンを焼き付ける際、ウエハーとレンズの間に液体（浸水液）を通すことで微細な加工を可能にした技術。
同社によると、40Ｇ製品は消費電力が大きい中央処理装置（ＣＰＵ）、グラフィックＩＣ、ゲーム機用チップなどに、40ＬＰ製品は漏電にデリケートな通信機器などに使用される。
同社はまた、自社株８億株の償却を実施すると発表した。減資後の１株当たり純資産は19.1台湾元（約63.7円）に上昇する。
