ファウンドリー最大手、台湾積体電路製造（ＴＳＭＣ）が３～５ナノメートル製造プロセスで2022年の量産を目指す計画を、楊弘敦科技部長が６日明らかにした。投資額は5,000億台湾元（約１兆8,000億円）。科技部は南部科学工業園区（南科）高雄園区での50～80ヘクタールの用地取得、工業用水や電力供給などに協力する。官民一体でＴＳＭＣの先進プロセスを推進し、サムスン電子、インテルに決定的な差を付ける。７日付経済日報などが報じた。

楊科技部長は６日、年内に計画をまとめてＴＳＭＣに提示し、早ければ来年半ばにＴＳＭＣの董事会で投資計画が承認されると見通しを示した（６日＝中央社）

　ＴＳＭＣの張忠謀（モリス・チャン）董事長は５日の全国科学技術会議に出席し、昼食時に楊科技部長と今後の投資計画について話し合った。

　楊科技部長によると、ＴＳＭＣは３～５ナノプロセス計画で、20年に工場着工、22年に量産し、年間売上高2,000億元、就業機会１万件以上の創出を見込んでいる。工業用水や電力供給は、南科管理局や経済部水利署、高雄市政府水利局が支援する。高雄市は大気汚染物質排出の総量規制の対象地域に含まれる上、来年からＰＭ2.5（微小粒子状物質）３級空気質（大気質）防止制御エリアとなるので、新規投資や追加投資に際して排出権を取得する必要があるため、科技部が行政院環境保護署（環保署）と協力して政府、環境保護団体との調整を図る。ファウンドリー最大手の工場拡張を支援することで、台湾域内の民間投資を促進する狙いもある。

ＥＵＶ採用でコスト低減

　ＴＳＭＣは６日、科技部に50～80ヘクタールの用地取得と、工業用水、電力供給問題について協力を求めたのは事実だが、投資計画の詳細はまだ明かせないとコメントした。インテルやサムスン電子の５ナノプロセス、３ナノプロセスは、計画だけで実行を伴っていない。ＴＳＭＣの具体的な予定地が明らかになったことは、両社にとってプレッシャーとなりそうだ。

張董事長。ＴＳＭＣの３ナノプロセスは300～400人体制で研究開発（Ｒ＆Ｄ）を進めている（中央社）

　業界関係者は、ＴＳＭＣの３ナノプロセスは極端紫外線（ＥＵＶ）露光技術を採用し、大幅なコスト低減を実現すると予測した。ＴＳＭＣのサプライヤーは、ＴＳＭＣは５ナノ以降の先進プロセス計画でライバルを振り切り、世界最大手の座を固める狙いがあると話した。

　ＴＳＭＣは先月、南科の５ナノプロセス、および中部科学工業園区（中科）台中園区の10ナノプロセス、７ナノプロセス工場拡張について、環境影響差異分析が環保署プロジェクトチームの審査を通過した。南科の５ナノプロセス工場は来年着工、20年量産予定だ。ＥＵＶ露光技術を初めて採用し、生産能力は10万枚の見通しだ。10ナノ立体構造トランジスタ（FinFET）プロセスは、既にアップル、聯発科技（メディアテック）、海信集団（ハイセンスグループ）などの顧客を抱える。７ナノプロセスは17年末～18年初めに量産予定で、ザイリンクス、エヌビディアなどの採用が決まっている。

半導体装置、台湾出荷が最多

　ＳＥＭＩ（国際半導体製造装置材料協会）が６日発表した統計によると、半導体製造装置の第３四半期出荷額は110億米ドルで、前期比５％増増加した。国・地域別では、台湾が前期比26.7％増の34億6,000万米ドルで最も多かった。韓国は前期比36.6％増の20億9,000万米ドルだった。

　一方、半導体製造装置の第３四半期受注額は113億米ドルと、前期比５％減少した。

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