中国の財政部は30日、半導体先進製造プロセスに関する新たな投資を行った企業に対し、製造プロセスの先進性、企業の事業期間、投資規模に応じて企業所得税（法人税、基本税率25%）を５～10年にわたり大幅に減免する優遇措置を適用すると発表した。31日付工商時報が報じた。
中国財政部の発表によると、今年１月１日以降に回路線幅130ナノメートル以下の製造プロセスに投資を行った、事業期間10年以上の半導体企業またはプロジェクトに対し、企業所得税（法人税、基本税率25%）を最初の２年間は免除、３年目から５年目にかけて半減する措置をとる。
また１月１日以降に回路線幅65ナノ以下の製造プロセスに150億人民元（約2,500億円）以上の投資を行った、事業期間15年以上の半導体企業またはプロジェクトに対し、企業所得税を最初の５年間は免除、６年目から10年目は半減とする。
2017年以前、中国における半導体生産額は世界全体の７%にとどまっていたが、同国市場の需要は世界の約３分の１を占め、半導体関連の輸入額は2,000億米ドルを超えていた。こうした状況から中国政府は自国半導体産業の育成に注力することを決定。税制面、資金面で強力な支援を行っている。
ただ、現時点で中国における半導体の生産能力は、地場企業と外国企業の合弁および外国企業が単独で設置したものが過半を占めているほか、技術面でも、中国企業が米国、日本、韓国企業といった海外勢優位の状況を打破するには時間が必要との見方が出ている。
