三菱ガス化学は13日、半導体の製造工程で使用される超純過酸化水素（超純過水）の台湾での需要急増を受け、工業用過酸化水素（工薬過水）製造設備の建設を決定した。工薬過水製造設備から、稼働中の超純過水設備へ、原料となる工薬過水（原料過水）を供給することで、原料過水から超純過水までの現地一貫生産体制を実現する。
超純過水などの化学製品を製造販売する同社100％子会社の巨菱精密化学（ＭＧＣピュアケミカルズ台湾、台中市）が建設する。過酸化水素の年産４万トン（100％濃度換算）、2023年１月の運転開始予定。投資額は47億台湾元（約170億円）。
超純過水は、主に半導体のウエハーやデバイスの製造工程で、洗浄・エッチング・研磨剤として使用される。今後、第５世代移動通信（５Ｇ）、モノのインターネット（ＩｏＴ）、クラウドコンピューティング、人工知能（ＡＩ）などの用途拡大により、半導体需要は長期的に伸長すると予想され、半導体の微細化に伴い、より高品質で大量の超純過水需要が高まっている。
