極端紫外線（ＥＵＶ）露光（リソグラフィー）装置を唯一供給するオランダのＡＳＭＬは、台南市にＥＵＶ世界技術育成センターを設置すると発表した。南部科学園区（南科）で先進プロセスの工場拡張を進めるファウンドリー最大手、台湾積体電路製造（ＴＳＭＣ）を支援する。17日付電子時報が報じた。
ＴＳＭＣは下半期に５ナノメートル製造プロセスによる生産を手掛ける南科Fab18工場で、エンジニアを3,000～4,000人へと以前の2,000人から増員した。３ナノプロセスの生産ライン設置も急いでいる。同工場の５ナノ、３ナノプロセスに対する投資額は約500億米ドルに上る見通しだ。
業界関係者は、ＴＳＭＣが７ナノ以降のＥＵＶプロセスの生産能力を拡充する中、ＥＵＶ技術の人材、関連設備の調達やアフターサービスの需要が大幅に高まっており、ＡＳＭＬが大口顧客のＴＳＭＣの拠点近くで支援するのは必要かつ想定内だと指摘した。
