オランダの半導体製造装置大手、ＡＳＭＬは20日、南部科学園区（南科）でグローバル極端紫外線（ＥＵＶ）トレーニングセンターを稼働した。同社のＥＵＶ露光（リソグラフィー）装置を採用するファウンドリー世界最大手、台湾積体電路製造（ＴＳＭＣ）などアジアの顧客に対する技術支援を行う。21日付工商時報が報じた。
ＴＳＭＣは５ナノメートル製造プロセスによる生産を手掛ける南科Fab18工場や、７ナノプロセス強化版（７ナノプラス）、６ナノプロセスなどによる生産を手掛ける中部科学園区（中科）のFab15工場、新竹科学園区（竹科）のFab12工場でＥＵＶ露光装置を採用している。３ナノプロセスの生産ライン設置も進める南科Fab18工場では既にＥＵＶ露光装置18台を導入しており、ＴＳＭＣはＥＵＶ技術を使った生産能力で世界最大を誇る。
ＴＳＭＣは今後数年間は５、３ナノなど先進プロセスの旺盛な需要が続くとみて、今年の設備投資額を160億～170億米ドルへ引き上げており、今後もＥＵＶ露光装置の調達を増やすとみられている。
