経済部は、中国が半導体の国産化に注力する中、台湾のＩＣ設計技術が中国に流出するのを防ぐため、中国での投資・技術提携に関する審査原則を改正すると予告した。改正後は、投資額に関係なく事前審査を義務付けるほか、台湾企業の中核的競争力への影響などを明確にするよう投資申請者に求める。26日付自由時報が報じた。
現行規定では、中国で5,000万米ドルを超える投資を行う場合のみ関鍵（重要）技術小組による審査が必要で、5,000万米ドル以下は簡易審査、100万米ドル以下は事後の届け出で済む。台湾のＩＣ設計会社は規模の小さいところが多く、中国での投資・技術提携の金額も相対的に低いため、これまでは当局の管理が十分に行き届かなかった。
また、技術提携に関しては、これまでは技術、特許、商標などのみが規制の対象だったが、改正によりＩＣ設計に関わる「集積回路レイアウト権」の文言を加える。
