28日付電子時報によると、ファウンドリー最大手、台湾積体電路製造（ＴＳＭＣ）は７、５、３、２ナノメートル製造プロセスへの設備投資を拡大しており、2021年末までにＥＵＶ露光（リソグラフィー）装置を55台以上へと、現在の30台以上から増やすようだ。サムスン電子は20台未満で、21年時点でも25台未満と予想されている。
ＴＳＭＣは▽アップル▽エヌビディア▽アドバンスト・マイクロ・デバイセズ（ＡＭＤ）▽クアルコム▽ザイリンクス▽聯発科技（メディアテック）▽中国の人工知能（ＡＩ）半導体メーカー──からの受注増を受け、７、５ナノプロセスの生産能力拡大を進めているようだ。また、22年下半期の３ナノプロセス量産規模も拡大するとみられる。
半導体関係者によると、ＴＳＭＣは５、３ナノプロセス拠点の南部科学園区（南科）工場だけでＥＵＶ露光装置20台を導入している。
