信越化学工業は15日、台湾子会社の信越電子材料（信越エレクトロニクス・マテリアルズ台湾）が雲林科技工業区（雲科）で、半導体製造工程で使用されるフォトレジストの第２期工場を着工したと発表した。2021年２月の完工を目指し、多層レジスト材料の生産能力は従来の５割増となる。
信越電子材料は19年７月から雲科工場でフォトレジストを生産している（同社リリースより）
同社は、先端半導体製造に不可欠なフォトレジストの需要と技術進化に応えるためと説明した。投資額は、直江津工場（新潟県上越市）と合わせて300億円。
同社広報担当はワイズニュースの取材に対し、台湾で初めて極端紫外線（ＥＵＶ）向けも生産すると明らかにした。台湾を含む世界の半導体デバイスメーカーへ供給する。
