半導体設備業者によると、ファウンドリー最大手の台湾積体電路製造（ＴＳＭＣ）はオランダのＡＳＭＬとの間で出荷・納入スケジュールについて、今年はＥＵＶ露光（リソグラフィー）装置15～16台、来年は13台以上と確認した。５ナノメートル製造プロセスの生産能力拡充、３ナノプロセスによる生産開始向けだ。13日付電子時報が伝えた。
５、３ナノプロセス拠点の南部科学園区（南科）工場は現在、ＥＵＶ露光装置が20台ある。観測が事実とすれば、来年末までに約50台と、競合のサムスン電子の約30台を大きく上回る。
ＥＵＶ露光装置は１台当たり約１億ユーロ（約124億円）。ＴＳＭＣのこれまでの調達額は1,500億台湾元（約5,500億円）以上とみられる。これに関連設備の導入や人材育成を加えると、さらに費用がかかる。
ＴＳＭＣの来年上半期の５ナノ出荷は月10万～10万5,000枚を維持し、下半期は12万枚に増加すると見込まれる。３ナノ製品は来年リスク生産を開始し、2022年に量産に入る予定だ。当初の月産５万～５万5,000枚から、23年に月産10万～10万5,000枚に引き上げるとみられる。
