韓国メディア「ビジネスコリア」の報道によると、オランダの半導体製造装置大手、ＡＳＭＬのピーター・ウェニンク最高経営責任者（ＣＥＯ）など複数の幹部が先週、サムスン電子を訪問し、極端紫外線（ＥＵＶ）露光（リソグラフィー）装置の供給について協議したようだ。サムスンはファウンドリー最大手の台湾積体電路製造（ＴＳＭＣ）より早く、ＡＳＭＬの次世代ＥＵＶ露光装置を確保し、先端プロセス競争でＴＳＭＣとの差を縮めたい考えとされる。２日付経済日報が報じた。
ＡＳＭＬは2023年半ばに次世代ＥＵＶ露光装置のプロトタイプを開発する計画で、サムスンは開発資金を出す意向を示しているという。同装置は１台5,000億ウォン（約470億円）と現在主流の装置の２～３倍に上るようだ。
ＴＳＭＣは７ナノメートル製造プロセス強化版（７ナノプラス）からＡＳＭＬのＥＵＶ露光装置を導入し、これまでに計35台を調達した。来年末までに調達台数は計50台を超える見通しだ。
一方、サムスンは７ナノプロセスからＥＵＶ露光装置を導入したが、良品率が低く、さらに先端のプロセスの良品率でもＴＳＭＣを下回っている。また、ＡＳＭＬからの調達台数も累計20台未満にとどまっているようだ。
