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作成日：2009年7月7日_記事番号：T00016452
ＴＳＭＣ、仏電子情報技術研と提携
台湾積体電路製造（ＴＳＭＣ）は６日、フランス原子力庁電子・情報技術研究所（CEA-Leti）と提携し、同研究所が進める「イマジン産業研究計画」に参加すると発表した。半導体の生産過程におけるマスクレス露光技術について研究を進めるのが目的だ。７日付工商時報が伝えた。
同研究所との提携期間は３年で、研究に参加した企業は自社の製品に研究成果を使用できる。ＴＳＭＣは先ごろ、半導体設備メーカーのマッパー・リソグラフィーと22ナノメートル以下の製造プロセスに使用するマルチ電子ビーム露光の開発に取り組むことに合意している。
ＴＳＭＣはマスクレス露光技術分野で既に露光処理とプロセスを複数回行うＤＰＴ技術と水液浸露光技術を40ナノメートル、28ナノメートル製造プロセスに応用し、40ナノメートルでは量産化に成功している。
同社の40ナノメートル技術をめぐっては良品率の低さで主要顧客から苦情が相次いだとされるが、ドイツ証券によれば、同率は既に60％以上まで改善したもようだ。
