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ノバテック、米特許侵害訴訟で和解成立


ニュース 電子 作成日:2009年7月15日_記事番号:T00016630

ノバテック、米特許侵害訴訟で和解成立

 
 IC設計大手の聯詠科技(ノバテック)は13日、米ハニーウェル社に特許侵害で提訴された裁判で勝訴したことを受け、和解が成立したことを明らかにした。双方はすべての訴訟を取り下げることで合意した。15日付経済日報が伝えた。

 原告のハニーウェルは2007年3月、ノバテックを含む液晶パネル関連10社に特許を侵害されたと提訴。今年6月8日に米テキサス州東部連邦地裁が、原告敗訴の判決を言い渡していた。

 ノバテックの陳健興副総経理は「米国における初の重大特許訴訟だったが、ついに勝利できた」とコメントした。