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TSMCとアルテラ、55ナノ埋込フラッシュで協力


ニュース 電子 作成日:2013年4月17日_記事番号:T00043155

TSMCとアルテラ、55ナノ埋込フラッシュで協力

 ファウンドリー最大手、台湾積体電路製造(TSMC)と同社の主要顧客でFPGA(フィールド・プログラマブル・ゲート・アレイ)デバイス大手、アルテラは16日、55ナノメートル製造プロセスの埋め込み型フラッシュメモリ(EmbFlash)分野で技術提携を行うと発表した。今後アルテラはTSMCの55ナノEmbFlashプロセスを利用してプログラマブル・デバイスを生産し、自動車や産業機器などさまざまな市場における低消費電力・大量生産アプリケーション向けに提供する。17日付電子時報が報じた。

 アルテラは先ごろ、14ナノFinFETプロセスでインテルと提携すると表明し、TSMCとの関係に異変が起きるとの観測が出た。しかしその後、TSMCは20ナノ製造プロセスでも引き続きアルテラと提携を継続すると宣言したほか、今回、55ナノ埋め込み型フラッシュでも協力すると発表したことで両社の関係に変わりがないことを強調した形だ。