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TSMC、32ナノプロセス初の試作成功


ニュース 電子 作成日:2007年12月12日_記事番号:T00004316

TSMC、32ナノプロセス初の試作成功


 台湾積体電路製造(TSMC)は11日、ファウンドリーとして初めて、アナログおよびデジタルICをサポートする32ナノメートル製造プロセス技術を開発したと発表した。12日付経済日報が伝えた。
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 同社が試作に成功したのは、トランジスタのセルサイズが最小の2MB・32ナノメートルSRAMで、機能テストも通過している。

 同社は第4四半期もナノレベルの生産ラインはフル稼働状態で、来年第1四半期の受注も順調だ。来年初めには40ナノを、2009年第4四半期には32ナノ低効率ロジック製品を発売し、将来的には32ナノプロセスを用いたデジタルやアナログ、高周波、高密度メモリなど多様な製品を提供したいとしている。