ニュース 電子 作成日:2016年2月18日_記事番号:T00062046
外電によると、インテルは10ナノメートル製造プロセス製品の量産が2017年末にずれ込む見通しで、台湾積体電路製造(TSMC)より最大1年の遅れを取ることになりそうだ。18日付経済日報が報じた。
インテルは10ナノプロセスのロードマップをまだ発表していない。ただ経済サイトThe Motley Foolによると、インテルの広報が、計画通り17年下半期に10ナノプロセス製品を出荷すると認めた。インテルの10ナノプロセスによるプロセッサー量産計画は、▽17年、「Cannonlake」▽18年、「Icelake」▽19年下半期、「Tigerlake」──。市場では、インテルは20年に7ナノプロセス製品を量産し、22年に5ナノプロセスに移行するとみられている。
一方、TSMCは、今年第1四半期に10ナノプロセスでテープアウト(設計完了)、年末に量産する計画だ。7ナノプロセスは今年第1四半期にSRAMを生産し、18年第1四半期のテープアウトを予定している。5ナノプロセスはこれまで1年半かけて研究開発(R&D)しており、20年第1四半期に量産する予定だ。
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