台湾積体電路製造（ＴＳＭＣ）は20日、同社の３～５ナノメートル製造プロセスによる工場建設計画を楊弘毅科技部長が無断公表したため総統府に抗議し、陳健仁副総統から謝罪を受けたとする20日中国時報の報道を事実無根と指摘するとともに、３～５ナノプロセスは依然計画段階で、具体的な内容が決まるのは少なくとも１年以上後になると説明した。21日付自由時報が報じた。
総統府も、陳副総統がＴＳＭＣの張忠謀（モリス・チャン）董事長に電話をかけたのは産業界の台湾投資について意見交換をするためであり、メディアの報道は事実と異なると表明した。
科技部は、楊科技部長がインタビューを受けた際の発言内容は、全てメディアで既に報道され、ＴＳＭＣによって公開情報とされており、企業秘密の漏えいはしていないと弁明した。
