台湾ＤＲＡＭ大手、南亜科技（ナンヤ・テクノロジー）のベテランエンジニアが昨年、中国の半導体大手、西安紫光国芯半導体に転職するのに際し、南亜科技の20ナノメートルウエハー製造技術を不正に持ち出していた疑いが強まり、桃園地方法院検察署は営業機密漏えいの罪で李智存容疑者（46）を起訴した。９日付自由時報が伝えた。
調べによると、李容疑者は転職時にパソコン画面をキャプチャーするなどの手口で、機密情報を持ち出した疑いが持たれている。
南亜科技は８日、企業秘密と知的財産権の防衛に努める姿勢を改めて表明し、審理に全面的に協力するとともに、他に不正がないかどうか引き続き調査を進めると説明した。
