台湾積体電路製造（ＴＳＭＣ）を退職したエンジニアが28ナノメートル製造プロセスに関する企業秘密文書を不正にコピーした上で中国企業に転職したとして、営業秘密法違反などの罪で起訴された。19日付自由時報が伝えた。
新竹地方法院検察署によると、起訴されたのはＴＳＭＣの元エンジニアの呉容疑者。呉容疑者は昨年９月、28ナノプロセスに関する重要な企業秘密文書を不正にコピー。同年12月に退職後、中国・江蘇省無錫市の「華潤上華科技」に転職したと疑われている。
エンジニアがＴＳＭＣの28ナノプロセスに関する機密を中国に持ち出したとして起訴されたのは２例目で、もう１人は昨年５月に起訴された。
