新竹市の清華大学は20日、12インチウエハーで大規模電子ビーム直接描画（MEBDW）リソグラフィーを行うプログラム（MEB12）の開始記念式典で、▽MEBDWリソグラフィー装置を世界で唯一製造するオランダのマッパー・リソグラフィー▽日本の半導体製造装置大手、SCREENセミコンダクターソリューションズ▽電子系設計ソフトウエア開発大手、米シノプシス──と提携覚書（ＭＯＵ）を交わした。20日付工商時報が報じた。
MEBDWリソグラフィーは「オンチップセキュリティー」を実現するもので、インターネット、人工知能（ＡＩ）、電子決済、および自動車向けのＩＣチップにセキュリティー情報を付加する。この固有ＩＤを持つセキュリティーチップの開発、試作を世界で初めて台湾で行うことが可能になる。
MEB12の発起人の一人である清華大学の邱博文電機系教授は、MEB12はセキュリティーチップの開発に加え、マスクレスＩＣ設計の検証プラットフォームとしても利用できると説明。急騰するフォトマスクの大幅なコスト削減により、新興ＩＣ設計会社の負担を軽減したり、高い解像度と柔軟な描画性能により、ニッチな市場向けの低コストファウンドリーを支援できると述べた。
