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作成日：2008年6月4日_記事番号：T00007911
ＴＳＭＣ、40ナノ対応リファレンス・フロー発表
台湾積体電路製造（ＴＳＭＣ）は３日、40ナノメートル製造プロセスの設計課題などに対応した「リファレンス・フロー9.0」を発表した。このフローを採用することで、40ナノプロセスの設計期間を短縮するとともに、低消費電力の実現と良品率向上が可能になるとしている。
「リファレンス・フロー9.0」は、同社が顧客などに提供する「オープン・イノベーション・プラットフォーム」の一つで、設計担当者が45ナノプロセスを基に40ナノプロセスの設計をスムーズに行えるほか、動作電力やリーク電流などを削減することができる。
