半導体用フォトマスクメーカーの台湾光罩（台湾マスク）は、早ければ今年末か来年初めにも40ナノメートル製造プロセス用フォトマスクの量産を開始できる見通しだ。15日付工商時報が報じた。
台湾光罩は、８インチウエハー向けフォトマスクが主力で、今年12インチウエハー向け製品に参入した。第１四半期に65ナノ製造プロセス用フォトマスクの量産を開始した。現在、40ナノプロセス用製品を開発している。
台湾光罩は、ファウンドリーの28ナノプロセス用フォトマスクを受託生産するため、第２四半期から開発を開始した。
台湾光罩の３月の連結売上高は前月比５％増、前年同月比6.3％の４億2,300万台湾元（約16億円）で、同月として過去最高だった。第１四半期は前期比2.7％減、前年同期比15.4％増の12億7,600万元で、同期として過去最高だった。
